本发明提供基板处理装置及半导体装置的制造方法，在第一和第二处理模块中生成相同的膜的情况下能够在第一和第二处理模块之间使所生成的膜的品质相同。该基板处理装置具备：第一处理模块；第二处理模块；第一排气箱；第二排气箱；通用供给箱；第一阀组；以及第二阀组，为了在第一处理模块及第二处理模块中生成相同的膜，而错开时间并行地进行重复实质上相同的气体供给序列的处理，关于所错开的时间，通过以多种处理气体中的特定的气体的供给定时不与先开始处理的第一处理模块及第二处理模块的一方的气体供给序列重叠的方式，使后开始处理的第一处理模块及第二处理模块的另一方的气体供给序列延迟的方法来决定。