本发明公开了一种半导体圆晶表面杂质去除设备，包括清洗槽，清洗槽底面中部设有出水管，清洗槽底面下方设有储水箱，储水箱顶面一端设有水泵，水泵的出水口固接有送水管，清洗槽顶面上方设有固定板，固定板底面设有两根电动推杆、热风机、喷水管和喷气管，每根电动推杆的活动端均设有防水电机，每台防水电机的电机轴均固接有连接柱，清洗槽内底面上方设有支撑框，支撑框顶面四角均固接有限位杆，支撑框顶面上方设有限位框，每根限位杆中部均固接有连接杆，每根连接杆的另一端均与对应连接柱固接，清洗槽一侧面下端设有电源箱。本发明可批次清洗、干燥半导体圆晶，有利于提高作业效率。