一种区熔硅单晶的收尾方法
授权
摘要
本发明公开了一种区熔硅单晶的收尾方法,包括以下步骤:(1)当多晶尾料剩余10kg时,继续保持等径生长,直至多晶尾料剩余2kg时,均匀降低多晶尾料速度直至多晶尾料速度归零后快速提断,晶体拉速和加热功率保持不变,此过程单晶直径将缓慢减小;(2)当多晶尾料提断后,保持多晶尾料向提拉的方向移动,开启自动程序控制加热功率曲线和晶体拉速曲线,功率曲线先均匀快速地下降至初始功率值的75%‑85%,再缓慢均匀增加,最高不超过初始功率值;晶体拉速匀速降低至0,直至单晶熔体完全结晶后停炉冷却即可。本发明的方法可将单晶尾部损失降低至8kg以下。通过此方法收尾成功率大幅提升,可达90%以上,综合收率提高10%以上。
基本信息
专利标题 :
一种区熔硅单晶的收尾方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112941615A
申请号 :
CN201911262992.4
公开(公告)日 :
2021-06-11
申请日 :
2019-12-10
授权号 :
CN112941615B
授权日 :
2022-05-20
发明人 :
尚锐刚王永涛白杜鹃刘建涛崔彬闫志瑞高源李明飞聂飞
申请人 :
有研半导体材料有限公司
申请人地址 :
北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧
代理机构 :
北京北新智诚知识产权代理有限公司
代理人 :
刘秀青
优先权 :
CN201911262992.4
主分类号 :
C30B13/28
IPC分类号 :
C30B13/28 C30B29/06
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B13/00
区域熔融法单晶生长;区域熔融法精炼
C30B13/28
控制或调节
法律状态
2022-05-20 :
授权
2021-07-13 :
著录事项变更
IPC(主分类) : C30B 13/28
变更事项 : 申请人
变更前 : 有研半导体材料有限公司
变更后 : 有研半导体硅材料股份公司
变更事项 : 地址
变更前 : 101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧
变更后 : 101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧
变更事项 : 申请人
变更前 : 有研半导体材料有限公司
变更后 : 有研半导体硅材料股份公司
变更事项 : 地址
变更前 : 101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧
变更后 : 101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧
2021-07-02 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 13/28
申请日 : 20191210
申请日 : 20191210
2021-06-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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