激光退火系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种激光退火系统。所述激光退火系统包括：固定的平台(1)、嵌入在所述平台(1)内的可密封的工艺腔室(2)以及相对于所述平台(1)可移动的光学系统；所述工艺腔室的腔室空间里只设置有吸附卡盘组件。根据本实用新型的激光退火系统大幅减小了工艺腔室的体积，易于实现工艺腔室的无氧环境控制，并且在工艺过程中避免了因系统运动产生颗粒。
基本信息
专利标题 ：
激光退火系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921880295.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-04
授权号 ：
CN210722984U
授权日 ：
2020-06-09
发明人 ：
刘效岩张程鹏王建程闻兴
申请人 ：
北京华卓精科科技股份有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区清华科技园学研大厦B座1009
代理机构 ：
北京头头知识产权代理有限公司
代理人 ：
吕艳英
优先权 ：
CN201921880295.0
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683 H01L21/268 H01L21/324
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2020-06-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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