一种半导体处理设备
专利权的终止
摘要

一种半导体处理设备,包括下底座,所述下底座的下端对称设置有四个支撑腿,所述下底座的上端设置有上底座,所述下底座的内部安装有下模,所述下底座的底端设置有下料装置,所述下底座的上端开设有下凹槽,所述下底座的内部在位于下凹槽的外侧对称开设有两个空腔,所述空腔的内部安装有弹簧。本实用新型所述的一种半导体处理设备,通过设置三个注塑口以及导流孔,可以加快半导体芯片的封装,提高工作效率,通过设置下料装置以及下料装置上的六个顶杆,可以使芯片在封装完毕后能够轻松下料,通过设置可拆卸的上模、下模,可以在模腔需要清洗时能简单轻松的将上下模拆下进行清洗,最终提高了工作效率。

基本信息
专利标题 :
一种半导体处理设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922172717.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-06
授权号 :
CN211125580U
授权日 :
2020-07-28
发明人 :
朱如泉
申请人 :
深圳市泉光半导体有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区园山街道大康龙村龙兴路三巷十号之二(B栋)厂房第一层
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201922172717.5
主分类号 :
H01L21/56
IPC分类号 :
H01L21/56  B29C45/14  B29C45/26  B29C45/27  B29C45/40  B29L31/34  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/50
应用H01L21/06至H01L21/326中的任一小组都不包含的方法或设备组装半导体器件的
H01L21/56
封装,例如密封层、涂层
法律状态
2021-11-12 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/56
申请日 : 20191206
授权公告日 : 20200728
终止日期 : 20201206
2020-07-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332