本申请公开了一种晶片的干燥装置、干燥方法、清洗系统及清洗干燥装置。该干燥装置包括：腔室；转盘，位于所述腔室内，所述转盘的侧壁适于固定晶片；以及换能器，连接至所述转盘，适于根据超声频电源提供超声波，并将所述超声波辐射至所述晶片，以使所述晶片孔内的水分子振动，其中，所述晶片具有开孔的表面被配置为背对所述转盘的轴线。该干燥装置利用换能器生成超声波，以撕裂水分子，并利用转动转盘使晶片开孔底部的水分子向开孔外部做离心运动，提高了对晶片干燥的效率和可靠性，从而提高了最终形成的器件的良率和可靠性。