验证化学机械研磨装置性能的方法
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摘要
本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种验证化学机械研磨装置性能的方法。所述验证化学机械研磨装置性能的方法包括如下步骤：形成一样品，所述样品包括衬底以及覆盖于所述衬底表面的金属层；采用一待验证的化学机械研磨装置对所述样品的所述金属层进行化学机械研磨；判断研磨后的所述金属层是否存在表面缺陷，若是，则确认所述化学机械研磨装置存在研磨缺陷。本发明能够对化学机械研磨装置的研磨性能进行准确评判和验证，从而有助于改善化学机械研磨装置的性能，减少晶圆损伤。
基本信息
专利标题 ：
验证化学机械研磨装置性能的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111426495A
申请号 ：
CN202010250471.3
公开（公告）日 ：
2020-07-17
申请日 ：
2020-04-01
授权号 ：
CN111426495B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
郑凯铭
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN202010250471.3
主分类号 ：
G01M99/00
IPC分类号 ：
G01M99/00 G01N33/2045 B24B1/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M99/00
本小类其他组中不包括的技术主题
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2020-08-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01M 99/00
申请日 : 20200401
申请日 : 20200401
2020-07-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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