用于化学机械研磨的声学发射监控和终点
授权
摘要
化学机械研磨设备包括平台以支撑研磨垫，及原位(in‑situ)声学发射监控系统，该原位声学发射监控系统包括由该平台支撑的声学发射传感器、经配置以延伸穿过研磨垫的至少一部分的波导，及用以接收来自声学发射传感器的信号的处理器。原位声学发射监控系统经配置以检测由基板的变形所造成且通过波导传送的声学事件，且处理器经配置以基于该信号来判定研磨终点。
基本信息
专利标题 ：
用于化学机械研磨的声学发射监控和终点
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111730492A
申请号 ：
CN202010662151.9
公开（公告）日 ：
2020-10-02
申请日 ：
2016-02-05
授权号 ：
CN111730492B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
J·唐D·M·石川B·切里安J·吴T·H·奥斯特赫尔德
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
汪骏飞
优先权 ：
CN202010662151.9
主分类号 ：
B24B37/013
IPC分类号 ：
B24B37/013 B24B37/04 B24B37/10 B24B37/20 B24B49/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/005
研磨机床或装置的控制装置
B24B37/013
检测研磨完成的设备或装置
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2020-10-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 37/013
申请日 : 20160205
申请日 : 20160205
2020-10-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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