一种铌酸锂晶圆的减薄方法
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摘要

本发明公开了一种铌酸锂晶圆的减薄方法,属于芯片封装技术领域。本发明的铌酸锂晶圆的减薄方法,包括以下步骤:提供一铌酸锂晶圆,在铌酸锂晶圆的背面贴第一划片胶膜,并沿铌酸锂晶圆正面的切割道进行预切割至预定深度;去除第一划片胶膜,在铌酸锂晶圆的正面贴磨片胶膜,磨片胶膜为双层胶膜;对铌酸锂晶圆的背面进行研磨至晶粒分离;在铌酸锂晶圆的背面贴第二划片胶膜,再去除磨片胶膜。本发明实现了铌酸锂晶圆的研磨前切割工艺,避免了现有技术中铌酸锂晶圆在磨切加工时易出现脆性破坏、亚表面损伤层深和切割正背面崩裂大等损伤的现象,且芯片正背面崩裂均可以控制在10um以内,有利于保证铌酸锂芯片封装产品的品质。

基本信息
专利标题 :
一种铌酸锂晶圆的减薄方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111900078A
申请号 :
CN202010711681.8
公开(公告)日 :
2020-11-06
申请日 :
2020-07-22
授权号 :
CN111900078B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
何肇阳赵亚东罗立辉钟志明汪洋陈楚杰
申请人 :
宁波芯健半导体有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市杭州湾新区庵东工业园区华兴地块中横路18号
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
郝传鑫
优先权 :
CN202010711681.8
主分类号 :
H01L21/02
IPC分类号 :
H01L21/02  H01L21/683  H01L21/78  B24B27/06  B24B37/04  B24B37/10  B24B55/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
法律状态
2022-04-15 :
授权
2020-11-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/02
申请日 : 20200722
2020-11-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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