一种单晶生长装置
授权
摘要
本发明提供了一种单晶生长装置,涉及晶片生长设备技术领域。该单晶生长装置,包括坩埚、籽晶结构、加热件、导向组件和多孔石墨板;坩埚的顶壁内侧配置成安装碳化硅碎晶片;导向组件设置在坩埚内部;导向组件内部形成第一容腔,籽晶结构设置在第一容腔的底壁;导向组件的外侧壁和坩埚的内侧壁共同形成第二容腔,第二容腔用于装盛碳化硅,第二容腔具有朝向坩埚的顶壁的开口;第一容腔和第二容腔通过开口连通;加热件设置在坩埚的外侧,加热件配置成向坩埚的侧壁提供热量,还配置成向坩埚的顶壁提供热量;多孔石墨板安装在第二容腔内部,且配置成供气态碳化硅穿过。本发明提供的单晶生长装置可以减少晶体中碳包覆物的产生,提高晶体品质。
基本信息
专利标题 :
一种单晶生长装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112831840A
申请号 :
CN202011615411.3
公开(公告)日 :
2021-05-25
申请日 :
2020-12-30
授权号 :
CN112831840B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
杨树张洁洪棋典廖弘基
申请人 :
湖南三安半导体有限责任公司
申请人地址 :
湖南省长沙市高新开发区长沙岳麓西大道2450号环创园B1栋2405房
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
冯洁
优先权 :
CN202011615411.3
主分类号 :
C30B29/36
IPC分类号 :
C30B29/36 C30B23/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/36
碳化物
法律状态
2022-05-10 :
授权
2021-06-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 29/36
申请日 : 20201230
申请日 : 20201230
2021-05-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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