本实用新型公开了一种半导体晶圆清洗设备，涉及到半导体领域。包括基座，所述基座的顶端设置有支撑板，所述支撑板的顶端且位于支撑板的端部设置有移动柱，所述移动柱的侧面设置有横撑杆，所述横撑杆的一端设置有圆形通孔，所述横撑杆的另一端设置有滑块一，所述移动柱的侧面设置有条形槽，所述滑块一设置在条形槽的内部，所述圆形通孔的内部设置有电机一，所述电机一的输出轴的末端设置半圆卡槽一，所述半圆卡槽一的内部设置有半导体晶圆，有益效果：消除了晶圆表面的颗粒物质，使晶圆表面更加洁净。消除了晶圆表面残留的副产物和化学液，让半导体晶圆的正反面都能得到喷淋清洗，提高了半导体的洁净程度。