一种微波等离子溅射光学镀膜机
授权
摘要
本实用新型涉及溅射成膜技术领域，具体来说是一种微波等离子溅射光学镀膜机，包括一圆形的真空室，真空室的半周的环向内侧依次间隔设置有若干靶材，在所述的真空室的另一半周的中部设有微波磁控管组件，所述的微波磁控管组件包括固态微波源、调谐器和定向耦合器波导。本实用新型结构简洁、新颖，选择合理的靶材及其设置位置，通过独特设计的微波磁控管组件实现对其激励，使用频率提高很大，使得氧气在真空腔室内活化的效率大大提高；不需要使用大功率射频电源，或使用多个射频氧化源，大幅降低设备成本；膜层折射率稳定性大幅提高，镀膜产品品质、良品率提高；采用矩形谐振腔的设计，使谐振腔内微波谐振腔模式数取得最大值，提高微波场的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
一种微波等离子溅射光学镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020041420.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-09
授权号 ：
CN212051629U
授权日 ：
2020-12-01
发明人 ：
毛念新黄翔鄂严仲君
申请人 ：
上海嘉森真空科技有限公司
申请人地址 ：
上海市嘉定区博学南路1015弄9号
代理机构 ：
上海三方专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴玮
优先权 ：
CN202020041420.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/10 C23C14/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-12-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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