一种半导体圆晶清洗架
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体圆晶清洗架,属于半导体制造技术领域,其技术方案要点是,包括两个侧框、活动框和固定框,活动框和固定框平行设置,两个侧框也平行设置,并分别设置在活动框和固定框的左右两端,两个侧框、活动框和固定框构成“方框”状结构;侧框沿自身长度方向开设有第一滑槽和第二滑槽,其中第一滑槽位于侧框靠近活动框的一侧,并沿水平方向朝侧框的内部延伸但不贯穿,第二滑槽贯穿侧框的上下两侧,并与第一滑槽呈“十字”贯穿设置;活动框的左右两端均一体固定设置有插板,两块插板分别插入并滑动设置在两个侧框上的第一滑槽内。该种半导体圆晶清洗架能够根据半导体圆晶的尺寸大小来进行相应的调节,并且具有很好的稳固性。
基本信息
专利标题 :
一种半导体圆晶清洗架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020089287.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-16
授权号 :
CN211839240U
授权日 :
2020-11-03
发明人 :
何景瓷
申请人 :
何景瓷
申请人地址 :
江西省九江市濂溪区十里大道1188号九江职业技术学院信息工程学院
代理机构 :
南昌卓尔精诚专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
罗茶根
优先权 :
CN202020089287.0
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02 B08B13/00 H01L21/673
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2020-11-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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