半导体设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种半导体设备，包括：硅片清洁单元，硅片载台和硅片贴膜单元，所述硅片载台适于承载待贴膜硅片至所述硅片清洁单元进行清洁后，至所述硅片贴膜单元进行贴膜。本实用新型的技术方案中，在硅片贴膜处理之前，能够进行硅片表面清洁处理，这样确保了硅片在贴膜之前，表面没有浮动脏污影响后续生产的良率。
基本信息
专利标题 ：
半导体设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020137628.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-21
授权号 ：
CN212230398U
授权日 ：
2020-12-25
发明人 ：
侯欣楠程进石金川
申请人 ：
格科微电子（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张江盛夏路560号2号楼11层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020137628.7
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-12-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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