一种全自动晶体生长炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种全自动晶体生长炉,包括底炉体、制冷机、第一高温电机、第二高温电机、控制机柜和炉压控制器,所述底炉体的内侧设置有保温桶,所述底炉体的内部下表面焊接有位于加热器内侧的侧板,所述冷却管的内侧底端设置有安装横板,所述底炉体的上方设置有分段体,所述控制机柜位于制冷机的右侧,所述炉压控制器安装在控制机柜的左侧面。该全自动晶体生长炉,利用冷却管和喷头方便均匀降低底炉体的温度,使得晶体均匀冷却,结构稳定,利用分段体之间的卡槽连接以及固定盘之间的螺钉连接,便于拆分底炉体,从而方便维修,通过压力传感器监控炉压,将炉压控制在40Torr,正常控制重掺锑单晶的电阻率分布。
基本信息
专利标题 :
一种全自动晶体生长炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020200262.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-02-24
授权号 :
CN211420365U
授权日 :
2020-09-04
发明人 :
张向东陆荣俞顺根程龙柱章斌
申请人 :
衢州晶哲电子材料有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市衢江区岑一路11-1号1幢
代理机构 :
衢州维创维邦专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
高永志
优先权 :
CN202020200262.3
主分类号 :
C30B29/06
IPC分类号 :
C30B29/06 C30B11/04
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/02
元素
C30B29/06
硅
法律状态
2020-09-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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