贮藏器和基板处理装置
授权
摘要
本实用新型提供一种贮藏器和基板处理装置。用于防止向作为被处理体的基板供给含有泡的处理液。贮藏器具备：容器部，其具有上壁、侧壁以及底壁，在内部收容处理液；液体喷出路径，其具有设置在比收容于容器部内的处理液的液面高的位置的液体喷出口，能够向容器部内喷出处理液；以及气体喷出路径，其具有设置在比液面高的位置的气体喷出口，能够向容器部内喷出气体。液体喷出路径能够以使处理液碰到侧壁中的比液面靠上方的部分的方式从液体喷出口喷出处理液。气体喷出路径能够以使气体碰到比容器部的内表面中的比液面靠上方的部分的方式从气体喷出口喷出气体。
基本信息
专利标题 ：
贮藏器和基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020706363.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-30
授权号 ：
CN212135138U
授权日 ：
2020-12-11
发明人 ：
牟田友彦柴田大树甲斐亚希子绪方诚
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202020706363.8
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/30 H01L21/027 H01L21/67
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-12-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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