一种微结构AR膜
授权
摘要
本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种微结构AR膜，其特征在于：在所述产品表面由内至外依次设置有氧化铝膜层以及二氧化硅膜层，且所述二氧化硅膜层覆盖在所述氧化铝膜层的外侧表面。本实用新型的优点是：有效提高AR膜的环境可靠性，大大提高其使用寿命；可使用ALD技术实现，工艺适应性好，便于生产，适于推广。
基本信息
专利标题 ：
一种微结构AR膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020752034.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-09
授权号 ：
CN213680877U
授权日 ：
2021-07-13
发明人 ：
蓝芝江庄明宇李硕沈岑浩
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN202020752034.7
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/40
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-07-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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