一种半导体生产加工用清洗装置
授权
摘要
本实用新型提供一种半导体生产加工用清洗装置。所述半导体生产加工用清洗装置包括超声波清洗槽；超声波发生器，所述超声波发生器设置在所述超声波清洗槽的底部；转动机构，所述转动机构设置在所述超声波清洗槽的一侧；第二电机，所述第二电机设置在所述转动机构上；收卷轴，所述收卷轴固定安装在所述第二电机的输出轴上；两个绕线轮，两个所述绕线轮均固定套设在所述收卷轴上；两个钢丝绳，两个所述钢丝绳分别缠绕在两个所述绕线轮上；两个挂环，两个所述挂环分别设置在两个所述钢丝绳的一端。本实用新型提供的半导体生产加工用清洗装置具有搬运物料方便，清洗较为干净，较为省时省力的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体生产加工用清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021169110.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-22
授权号 ：
CN213103568U
授权日 ：
2021-05-04
发明人 ：
刘伟阳
申请人 ：
南京国科半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市浦口区桥林街道步月路29号12幢554室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021169110.8
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
2021-05-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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