本实用新型公开了一种半导体生产用清洗装置，包括清洗槽，其内设置有受升降机构驱动可上下移动的清洗框；超声波发生器，设置在所述清洗槽的内侧底部；清洗水管，设置在所述清洗槽上，具有热水管、冷水管，所述热水管上设置有第一电磁阀，冷水管上设置有第二电磁阀；排水管，设置在所述清洗槽的一侧壁上，其上设置有第三电磁阀；控制器，设置在清洗槽的底部，与所述升降机构、超声波发生器、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀电连接。该清洗装置设置有热水管和冷水管，可向清洗槽内加入热水或冷水，能快速调节清洗槽内的温度，便于半导体产品进行超声波清洗和后续清洗，能将其表面附着的杂质颗粒清洗干净，其用水量少，清洗效果好。