用于半导体装片的晶圆清洁装置
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摘要

本实用新型涉及一种用于半导体装片的晶圆清洁装置,安装于半导体装片的机台上,所述晶圆清洁装置包括:装设于所述机台上的安装支架;装设于所述安装支架上的进气管,所述进气管的一端与一供气源连通;与所述进气管的另一端连通的吹气管,所述吹气管远离所述进气管的端部形成吹气口,所述吹气口对应所述机台上放置晶圆的位置设置。本实用新型提供了一种晶圆清洁装置,用于对晶圆的表面进行吹气而实现吹扫粉尘或异物,可实现快速便捷的清洁晶圆表面,减少沾污报废的现象,还可以减小拾取晶圆的吸嘴的磨损,提高吸嘴的使用寿命。本实用新型的晶圆清洁装置可提升清洁效率及效果,减少因晶圆表面异物带来的质量隐患。

基本信息
专利标题 :
用于半导体装片的晶圆清洁装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021280411.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-02
授权号 :
CN212883920U
授权日 :
2021-04-06
发明人 :
赵攀登张超卢红平赵云峻
申请人 :
上海泰睿思微电子有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区芦潮港路1758号1幢18641室
代理机构 :
上海唯源专利代理有限公司
代理人 :
汪家瀚
优先权 :
CN202021280411.8
主分类号 :
B08B5/02
IPC分类号 :
B08B5/02  B08B13/00  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B5/00
利用空气流动或气体流动的清洁方法
B08B5/02
用喷气力来清洁,如吹清凹处
法律状态
2021-04-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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