一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统
授权
摘要

本实用新型提供了一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统,包括工业相机、第一光学成像装置、第二光学成像装置、第一光源、第二光源、多维调节台和工控电脑,光芯片放置于多维调节台的上端,工业相机与工控电脑连接,工业相机、第一光学成像装置、第一光源、第二光学成像装置自上而下依次连接,第二光源与第二光学成像装置的侧面连接,第一光源为环形光源,第二光源为平行同轴光源;本实用新型与现有技术相比,结构简单,不用调节检测系统与线路板的距离,使用时只要调节调节台的高低即可成像,方便可靠,能清晰观察到光芯片微小缺陷的情况,扩展物距,使得镜头与检测物的工作距离很长,方便使用者对检测物操作,提高产品质量检测水平。

基本信息
专利标题 :
一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021378291.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-14
授权号 :
CN212932438U
授权日 :
2021-04-09
发明人 :
蒋全梅
申请人 :
上海申赋实业有限公司
申请人地址 :
上海市嘉定区嘉好路700号2幢1332室
代理机构 :
上海世圆知识产权代理有限公司
代理人 :
王佳妮
优先权 :
CN202021378291.5
主分类号 :
G01N21/95
IPC分类号 :
G01N21/95  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
法律状态
2021-04-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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