一种紫外发光二极管及其制备方法和应用
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摘要

本发明公开了一种紫外发光二极管及其制备方法和应用。本发明的紫外发光二极管,包括从下到上依次层叠设置的PSS衬底、GaN缓冲层、u‑GaN外延层、n‑GaN接触层、V‑pits层、多量子阱有源区、u‑AlGaN垒层、p+‑GaN、p型电子阻挡层、p‑GaN接触层。本发明通过具有V型结构的V‑pits层和特殊的掺杂方式的P型层,有效减少了p‑GaN外延层中未激活的束缚空穴对发光器件的光吸收,进而提高紫光LED光外量子效率;在P型层与V‑pits层的共同作用下,通过协同增效,使得紫外发光二极管具有优异的发光强度。

基本信息
专利标题 :
一种紫外发光二极管及其制备方法和应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113013303A
申请号 :
CN202110144385.9
公开(公告)日 :
2021-06-22
申请日 :
2021-02-02
授权号 :
CN113013303B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
贾传宇
申请人 :
东莞理工学院
申请人地址 :
广东省东莞市松山湖科技产业园区大学路1号
代理机构 :
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 :
陈嘉毅
优先权 :
CN202110144385.9
主分类号 :
H01L33/22
IPC分类号 :
H01L33/22  H01L33/14  H01L33/06  H01L33/04  H01L33/00  
法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-07-09 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 33/22
申请日 : 20210202
2021-06-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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