占空校正器件与方法以及使用它们的半导体装置
公开
摘要
本申请涉及占空校正器件与方法以及使用它们的半导体装置。占空校正器件包括全局占空校正电路和局部占空校正电路。全局占空校正电路基于局部校正信号对第一时钟信号和第二时钟信号执行全局占空校正操作。局部占空校正电路通过检测第一时钟信号和第二时钟信号的相位来执行局部占空校正，以及在一定数量的局部占空校正操作达到阈值时使能局部校正信号。
基本信息
专利标题 ：
占空校正器件与方法以及使用它们的半导体装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114301427A
申请号 ：
CN202110347137.4
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-03-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
韩贤旭
申请人 ：
爱思开海力士有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京弘权知识产权代理有限公司
代理人 ：
许伟群
优先权 ：
CN202110347137.4
主分类号 ：
H03K3/017
IPC分类号 ：
H03K3/017 H03K5/156
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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