具有注射器的衬底处理设备
公开
摘要
公开了一种衬底处理设备，其具有管、衬在管的内部表面上的封闭衬里、用于向衬里的内空间提供气体的多个气体注射器以及用于从内空间移除气体的排气管。衬里可以具有基本圆柱形壁，该壁由位于下端的衬里开口界定并且对于衬里开口上方的气体是基本封闭的。该设备可以具有舟皿，其构造和布置成可经由衬里开口移动到内空间中，并且设置有多个衬底保持器，用于在内空间中的衬底支撑长度上保持多个衬底。每个气体注射器可以在顶部具有单个出口开口，并且多个注射器的出口开口在衬底支撑长度上基本均等地分开。
基本信息
专利标题 ：
具有注射器的衬底处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114525496A
申请号 ：
CN202111372623.8
公开（公告）日 ：
2022-05-24
申请日 ：
2021-11-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
K.哈恩斯特拉L.吉迪拉C.G.M.德里德R.勒洛夫斯W.科内鹏H.特霍斯特
申请人 ：
ASMIP私人控股有限公司
申请人地址 ：
荷兰阿尔梅勒
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
焦玉恒
优先权 ：
CN202111372623.8
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/52 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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