配置用于布置在衬底处理设备的反应室内的注射器
公开
摘要
本发明涉及一种注射器，其配置用于布置在衬底处理设备的反应室内，以将气体注入反应室中。注射器可以沿着第一轴线伸长，并配置有沿着第一轴线延伸的内部气体传导通道，并设置有至少一个气体入口和至少一个气体出口。注射器可以具有沿着垂直于第一轴线的第二轴线延伸的宽度，该宽度基本大于注射器沿着垂直于第一和第二轴线的第三轴线延伸的深度。注射器的壁可以具有变化的厚度。
基本信息
专利标题 ：
配置用于布置在衬底处理设备的反应室内的注射器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114576154A
申请号 ：
CN202111418820.9
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-11-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
L.C.吉迪拉C.G.M.德里德
申请人 ：
ASMIP私人控股有限公司
申请人地址 ：
荷兰阿尔梅勒
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
焦玉恒
优先权 ：
CN202111418820.9
主分类号 ：
F04B53/00
IPC分类号 ：
F04B53/00 F04B53/16 H01L21/67
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F04
液体变容式机械；液体泵或弹性流体泵
F04B
液体变容式机械；泵
F04B
液体变容式机械；泵
F04B53/00
不包含在组F04B 1/00至F04B 23/00或组F04B 39/00至F04B 47/00中或与上述组无关的部件，零件或附件
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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