具有增强的高频性能的金属氧化物半导体场效应晶体管
专利申请权、专利权的转移
摘要

本发明提供一种具有增强的高频性能的金属氧化物半导体场效应晶体管,包括用作漏极区域的半导体衬底和设置在衬底上表面上的外延区域。所述MOSFET器件包括在外延区中形成的多个体区域和多个源极区域。所述体区域设置在外延区域的上表面附近并且彼此横向间隔,并且每个源极区域设置在对应的体区域中靠近所述体区域的上表面。MOSFET器件包括具有多个平面栅和一沟槽栅的栅极结构。每个平面栅设置在外延区域的上表面上并与相应体区域重叠。所述沟槽栅形成为部分地通过所述外延区域并且在所述体区域之间,所述沟槽栅的上表面凹陷在所述外延区域的上表面之下。

基本信息
专利标题 :
具有增强的高频性能的金属氧化物半导体场效应晶体管
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114361250A
申请号 :
CN202111547635.X
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-12-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
许曙明吴健陈劲甫
申请人 :
力来托半导体(上海)有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼
代理机构 :
北京清大紫荆知识产权代理有限公司
代理人 :
黎飞鸿
优先权 :
CN202111547635.X
主分类号 :
H01L29/423
IPC分类号 :
H01L29/423  H01L29/78  H01L21/336  H01L21/28  H01L23/64  
法律状态
2022-06-14 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : H01L 29/423
登记生效日 : 20220601
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 力来托半导体(上海)有限公司
变更后权利人 : 上海晶丰明源半导体股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼
变更后权利人 : 200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区申江路5005弄3号9-12层、2号102单元
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 29/423
申请日 : 20211216
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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