一种发光二极管外延片制备方法及外延片
实质审查的生效
摘要

本发明公开一种发光二极管外延片制备方法及外延片,在氩气作为载气的条件下生长第一子层,由于氩气具有较大的原子质量,能够提供更高的动量,提高Al原子的横向迁移效率,促进第一子层横向生长,能够降低第一子层以及后续生长的第二子层的表面粗糙度和缺陷密度,提高晶体质量;但是由于第一子层的生长速率较快,容易产生刃位错,通过设置氢气作为载气生长第二子层,由于氢气的分子质量较低,在生长时分子运动活性强,对结晶质量较差的晶体具有刻蚀和重结晶的作用,有助于减小刃位错,进一步提高晶体质量。

基本信息
专利标题 :
一种发光二极管外延片制备方法及外延片
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114267756A
申请号 :
CN202111566789.3
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘春杨胡加辉金从龙顾伟
申请人 :
江西兆驰半导体有限公司
申请人地址 :
江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
熊明
优先权 :
CN202111566789.3
主分类号 :
H01L33/00
IPC分类号 :
H01L33/00  C30B23/02  C30B25/18  C30B29/40  C30B31/08  C30B33/02  H01L33/06  H01L33/14  H01L33/32  
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 33/00
申请日 : 20211220
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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