半导体工艺设备及其晶圆传输系统
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种晶圆传输系统,包括传输腔、第一传输组件、加载腔、第二传输组件和校准腔,传输腔用于与反应腔室连通;加载腔的一侧与传输腔连通,另一侧具有传输口;第二传输组件用于通过传输口将晶圆传输至加载腔中的托盘上,以及由加载腔中的托盘上取下晶圆并将晶圆传出加载腔;校准腔中设置有校准组件,用于对托盘位置进行校准;第一传输组件用于将托盘传入校准腔中对托盘位置进行校准,并将校准后的托盘由校准腔中取出并传入加载腔中,还用于将承载有晶圆的托盘由加载腔中取出并传入反应腔室中。在本发明中,第一传输组件能够配合校准腔对托盘的位置进行校准,实现碳化硅晶圆的自动化传片、取片。本发明还提供一种半导体工艺设备。

基本信息
专利标题 :
半导体工艺设备及其晶圆传输系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114361086A
申请号 :
CN202111629651.3
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
赵东华杜林昕李晓军王磊磊李世凯刘晶晶王铁然孙小芹宫兆辉许利飞
申请人 :
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 :
北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 :
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 :
彭瑞欣
优先权 :
CN202111629651.3
主分类号 :
H01L21/677
IPC分类号 :
H01L21/677  H01L21/67  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的,例如在不同的工作站之间
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/677
申请日 : 20211228
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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