自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备
公开
摘要
本发明提供了一种自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备，所述方法，包括：建立关于设备参数的评价函数，以评价自动聚焦或像差校正时的图像质量；建立用于评价第一算法的抗干扰性的判定条件，使用所述第一算法优化评价函数，并在符合所述判定条件时切换为使用第二算法优化评价函数，其中，所述第二算法的抗干扰性高于第一算法；获得当所述评价函数形成极值使得图像质量最优时的设备参数。本发明在第一算法满足判定条件时切换为使用第二算法优化评价函数，可以提高求解过程的抗干扰性，提高计算结果的准确性。
基本信息
专利标题 ：
自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114299032A
申请号 ：
CN202111647271.2
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨康康刘骊松
申请人 ：
上海精测半导体技术有限公司
申请人地址 ：
上海市青浦区徐泾镇双浜路269、299号1幢1、3层
代理机构 ：
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄海霞
优先权 ：
CN202111647271.2
主分类号 ：
G06T7/00
IPC分类号 ：
G06T7/00 G06T3/40 H01J37/22
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T7/00
图像分析
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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