用于处理基板的方法和装置
实质审查的生效
摘要
公开了用于向基板上供应液体的方法和装置。该方法用于处理基板，且包括：液体供应步骤，其在基板旋转的同时供应用于在基板上形成液体膜的处理液体；以及液体扩散步骤，其在液体供应步骤之后，通过使基板旋转来使被排出到基板上的处理液体扩散。所述液体扩散步骤包括：主扩散步骤，其使基板以第一扩散速度旋转；以及二次扩散步骤，其在主扩散步骤之后，使基板以第二扩散速度旋转。第二扩散速度高于第一扩散速度。因此，能够通过执行二次扩散步骤再次向基板涂覆处理液体，使得可以调整感光膜的厚度。
基本信息
专利标题 ：
用于处理基板的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488696A
申请号 ：
CN202111648008.5
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2016-03-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
安恩锡闵忠基李正悦朴珉贞
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
钟锦舜
优先权 ：
CN202111648008.5
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 H01L21/67
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20160331
申请日 : 20160331
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
