一种晶圆晶向的定位装置及方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种晶圆晶向的定位装置及方法,该装置包括:承托环,旋转吸附装置,以及校准装置;承托环被构造出至少一圈径向向内延伸以承托晶圆的承托环面,承托环面设置环形布置的若干第一传感器,以采集基于晶圆压持第一传感器所确定的检测数据;校准装置包括一横向移动并设置校准边的调节块;承托环面与晶圆分离后,由旋转吸附装置吸附晶圆并执行粗调旋转,以将晶圆所具有的平边转动至面向校准边的状态,横向移动调节块,以在校准边与晶圆的平边吻合过程中对晶圆执行精调旋转。采用本发明,可使晶圆的平边定位准确,解决了在放置过程中造成的晶圆平边不统一的问题,提高了晶圆的制造良率。

基本信息
专利标题 :
一种晶圆晶向的定位装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114334781A
申请号 :
CN202111653431.4
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
顾雪平戴文海曹国文
申请人 :
智程半导体设备科技(昆山)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市玉山镇玉杨路299号3号房
代理机构 :
苏州友佳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
龚心怡
优先权 :
CN202111653431.4
主分类号 :
H01L21/683
IPC分类号 :
H01L21/683  H01L21/67  H01L21/68  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/683
申请日 : 20211231
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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