一种降低炉压生长n型直拉单晶硅的方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种降低炉压生长n型直拉单晶硅的方法,包括以下步骤:(1)将多晶硅料和n型掺杂剂置于石英坩埚中,在氩气气氛下加热至稳定的熔硅;(2)在稳定的熔硅中引入籽晶,随后经缩颈、放肩后,进入等径生长阶段;(3)在等径生长的全阶段或者中后期阶段,保持拉晶速率不变,降低单晶炉内氩气气压,提高炉内真空度到适当值并保持至直拉单晶硅生长完成。本发明通过全阶段降压生长或局部阶段降压生长单晶硅棒,提高n型直拉单晶硅轴向电阻率的方法中,炉内真空度可以通过程序控制,方便快捷;能够减少氩气的使用量,降低气体使用成本;直拉单晶硅的轴向电阻率均匀性得到明显改善,显著提高了硅棒的利用率。

基本信息
专利标题 :
一种降低炉压生长n型直拉单晶硅的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114540950A
申请号 :
CN202210020225.8
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2022-01-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
余学功黄杰胡泽晨杨德仁
申请人 :
浙江大学
申请人地址 :
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 :
杭州天勤知识产权代理有限公司
代理人 :
彭剑
优先权 :
CN202210020225.8
主分类号 :
C30B27/02
IPC分类号 :
C30B27/02  C30B29/06  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B27/00
保护流体下的单晶生长
C30B27/02
自熔融液的提拉法
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 27/02
申请日 : 20220110
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332