基于温度预测补偿的直拉式晶体生长炉
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要

本实用新型公开了一种基于温度预测补偿的直拉式晶体生长炉。在提升腔内安装有籽晶头,籽晶提升、籽晶旋转控制部件,在炉筒内安装有坩埚、坩埚提升、坩埚旋转控制部件,硅晶体原料放在坩埚内,坩埚外面包有坩埚加热控制部件,冷却水则贯穿炉筒内硅晶体原料液面的上部,以及整个提升腔,炉筒的上方装有单晶直径传感器,对准硅晶体原料液面位置,在炉筒的上部安装有抽真空部件,在提升腔的最上部以及炉筒的最下部装有氩气充气部件。采用带预测补偿功能的晶体生长控制策略,对坩埚内熔液温度、坩埚与籽晶提升速度、旋转速度等参数进行协调控制,在仅采用红外探测型单晶直径传感器的条件下,仍能达到与进口炉相当的晶体产品完整性与均匀性,达到电路级要求。

基本信息
专利标题 :
基于温度预测补偿的直拉式晶体生长炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620102232.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-03-31
授权号 :
CN2900558Y
授权日 :
2007-05-16
发明人 :
曹建伟张俊顾临怡邱敏秀
申请人 :
浙江大学
申请人地址 :
310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
林怀禹
优先权 :
CN200620102232.9
主分类号 :
C30B15/20
IPC分类号 :
C30B15/20  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
C30B15/20
控制或调节
法律状态
2009-09-23 :
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2007-05-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332