基于背偏调制的半导体器件、制备方法及系统
授权
摘要

本发明提供一种基于背偏调制的半导体器件、制备方法及系统,通过具有双绝缘层的基底,可制备具有背偏电极及中间层的半导体器件,且在半导体器件中,中间层位于绝缘层之间,并与背偏电极电连接,从而通过对功率管的静态漏电监测,可确定功率管的散热背偏,并通过背偏电极可调节降低功率管的漏电功耗,减少漏电生热;进一步的P型或N型的中间层,还可作为功率管的热沉,从而实现对功率管的散热;进一步的位于绝缘层之间且独立设置的中间层,还可在背偏调制期间避免对其他元件造成影响,同时还可提供较大的调节范围。因此,本发明可有效解决高密度集成的多功能芯片的散热问题,使得半导体器件中的电路具有较高的热稳定性。

基本信息
专利标题 :
基于背偏调制的半导体器件、制备方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114121679A
申请号 :
CN202210103752.5
公开(公告)日 :
2022-03-01
申请日 :
2022-01-28
授权号 :
CN114121679B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
刘尧刘海彬史林森关宇轩段花花刘森
申请人 :
微龛(广州)半导体有限公司
申请人地址 :
广东省广州市高新技术产业开发区科学大道18号A栋十一层1101单元
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
卢炳琼
优先权 :
CN202210103752.5
主分类号 :
H01L21/336
IPC分类号 :
H01L21/336  H01L21/762  H01L29/06  H01L29/41  H01L29/78  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/18
器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料
H01L21/334
制造单极型器件的台阶式工艺
H01L21/335
场效应晶体管
H01L21/336
带有绝缘栅的
法律状态
2022-05-17 :
授权
2022-03-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/336
申请日 : 20220128
2022-03-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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