本发明公开了一种调节离子刻蚀均匀性的孔丁，包括帽部和杆部，所述杆部的一端与帽部固定连接，所述杆部的侧面设置有槽口，所述杆部连接于帽部上偏离帽部中心的位置，所述槽口的宽度等于栅网的金属片的厚度，所述杆部上具有多个槽口，多个槽口沿杆部的长度方向均匀分布，相邻两个槽口的间距等于栅网的相邻两片金属片的间距，本发明能够方便的插入栅网上金属片的孔洞内，与栅网形成稳定结构，以方便、迅速的调整离子源栅网的局域的离子浓度，快速优化刻蚀均匀性。