投影光学系统

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本发明提供了一种投影光学系统。该投影光学系统包括沿该投影光学系统的光轴布置的多个透镜；其中，所述多个透镜可被分成为四个不重叠的透镜组，使得各个透镜组的总折射力是负折射力或正折射力；并且其中，第四透镜组中的各个透镜的折射力均等于或大于0。第三透镜组中的紧邻第四透镜组中的一透镜布置的透镜可具有面向所述第二物体的凹形表面。

基本信息

专利标题：

投影光学系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101107570A

申请号：

CN200580045519.0

公开（公告）日：

2008-01-16

申请日：

2005-12-30

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

奥雷利安·多多克威廉·乌尔希里

申请人：

卡尔蔡司SMT股份有限公司

申请人地址：

德国上科亨

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

党晓林

优先权：

CN200580045519.0

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G02B13/14

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2011-03-23 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101077489436
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005800455190
变更事项 : 专利权人
变更前 : 卡尔蔡司SMT股份公司
变更后 : 卡尔蔡司SMT有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前 : 德国上科亨
变更后 : 德国上科亨

2011-02-09 ：

授权

2008-03-05 ：

实质审查的生效

2008-01-16 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

暂无PDF文件可下载