抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法、除去装置、及抗蚀剂显像液...
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明目的在于提供从含TMAH及碳酸盐的抗蚀剂显像液中除去碳酸盐的方法、装置及抗蚀剂显像液的浓度控制方法。本发明所述的抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法包括利用NF膜过滤含TMAH及碳酸盐的抗蚀剂显像液的过滤工序。
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法、除去装置、及抗蚀剂显像液的浓度控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1800990A
申请号 ：
CN200610005718.5
公开（公告）日 ：
2006-07-12
申请日 ：
2006-01-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
梅枝孝道北川悌也
申请人 ：
长濑产业株式会社;长濑CMS科学技术株式会社
申请人地址 ：
日本大阪
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
王健
优先权 ：
CN200610005718.5
主分类号 ：
G03F7/26
IPC分类号 ：
G03F7/26 G03F7/32 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
法律状态
2011-09-14 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101183785210
IPC(主分类) : G03F 7/26
专利申请号 : 2006100057185
公开日 : 20060712
号牌文件序号 : 101183785210
IPC(主分类) : G03F 7/26
专利申请号 : 2006100057185
公开日 : 20060712
2008-01-30 ：
实质审查的生效
2006-07-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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