用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统
专利权的视为放弃
摘要
一种用于确定光刻系统中的空间光调制器(SLM)像素的状态的方法和系统，所述光刻系统被配置用于印刷所需图案。所述方法包括：确定与将要由光刻系统印刷的图案的理想掩模相关联的衍射级；以及然后对SLM像素的状态进行配置以匹配与所需图案有关的已确定衍射级。
基本信息
专利标题 ：
用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101111850A
申请号 ：
CN200680003428.5
公开（公告）日 ：
2008-01-23
申请日 ：
2006-01-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
阿扎特·拉伯特谢尔曼·伯特尼温塞劳·塞布哈尔
申请人 ：
ASML控股股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
齐晓寰
优先权 ：
CN200680003428.5
主分类号 ：
G06K9/00
IPC分类号 ：
G06K9/00 G02F1/1335 G02F1/135 G21K5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06K
数据识别；数据表示；记录载体；记录载体的处理
G06K9/00
用于阅读或识别印刷或书写字符或者用于识别图形，例如，指纹的方法或装置
法律状态
2010-08-04 ：
专利权的视为放弃
号牌文件类型代码 : 1606
号牌文件序号 : 101004398063
IPC(主分类) : G02F 1/1335
专利申请号 : 2006800034285
放弃生效日 : 20080123
号牌文件序号 : 101004398063
IPC(主分类) : G02F 1/1335
专利申请号 : 2006800034285
放弃生效日 : 20080123
2008-03-12 ：
实质审查的生效
2008-01-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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