半导体结构的检测方法及其检测装置
授权
摘要
本申请公开了一种半导体结构的检测方法及其检测装置。该检测方法包括建立扭曲值与至少一个电学性能参数之间的关系对照表;获取透射电子显微镜输出的半导体结构的剖面图像,包括至少一个孔的截面图形,截面图形所在平面垂直于孔的轴向;识别孔的多个边界点,获得多个边界点对应的多个边界坐标;根据多个边界坐标进行椭圆的数值拟合,并获得椭圆的长轴与短轴;计算长轴与短轴的差值,将差值作为孔的扭曲值;以及根据关系对照表和孔的扭曲值,判断孔对应的电学性能参数是否满足合理范围。该检测方法将每个孔的长轴与短轴差值作为孔的扭曲程度的表征参数,从而量化了孔的扭曲程度,最终达到量化分析扭曲程度对电学性能影响的目的。
基本信息
专利标题 :
半导体结构的检测方法及其检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110690133A
申请号 :
CN201910837420.8
公开(公告)日 :
2020-01-14
申请日 :
2019-09-05
授权号 :
CN110690133B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
魏强民卢世峰夏志良
申请人 :
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 :
湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
代理机构 :
北京成创同维知识产权代理有限公司
代理人 :
蔡纯
优先权 :
CN201910837420.8
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66 H01L21/67 G06T7/00 G06T7/13
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-06-03 :
授权
2020-02-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/66
申请日 : 20190905
申请日 : 20190905
2020-01-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载