一种半导体工艺设备上的新型进气管路装置
授权
摘要
本实用新型提供一种半导体工艺设备上的新型进气管路装置，包括进气管一以及进气管二，进气管一以及进气管二外接对应的工艺气体供气源，所述进气管二一端连接有输气管一以及输气管二，所述输气管一和输气管二连接至工艺腔内，所述工艺腔的一端设置有工艺腔法兰，所述输气管一和输气管二通过金属密封接头与进气管二连接，本实用新型具有如下的有益效果：每种气体分为两路进入工艺腔体后，能够更迅速的稳定，保证更好的工艺气氛，提高制品合格率，一旦有其中一路进气管因为工艺产生的副产物堵住，也不会影响产品在工艺过程中的供气。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体工艺设备上的新型进气管路装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920668611.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-10
授权号 ：
CN209991214U
授权日 ：
2020-01-24
发明人 ：
刘洋
申请人 ：
青岛华旗科技有限公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区流亭街道双元路西
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920668611.1
主分类号 ：
F17D1/02
IPC分类号 ：
F17D1/02 F17D3/01
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F17
气体或液体的贮存或分配
F17D
管道系统；管路
F17D
管道系统；管路
F17D1/00
管道系统
F17D1/02
用于气体或蒸气的
法律状态
2020-01-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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