一种半导体晶圆的开槽装置
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摘要

本实用新型公开了一种半导体晶圆的开槽装置,包括底座、支撑架和导气管,所述底座的中间位置开设有通风孔,且通风孔的内侧设置有风扇,所述底座的内部开设有第一滑动槽,所述滑块的上方设置有夹块,且夹块的内侧设置有橡胶保护垫,所述支撑架的下方设置有活动板,且活动板的下方连接有电动升缩杆,所述导气管的上方设置有安装座,且安装座上方设置有波纹管,所述安装座的内部通过扭力弹簧连接有旋转片,且安装座的内壁设置有限位块。该半导体晶圆的开槽装置可以便捷的对开槽装置开槽过程中产生的废屑进行清理收集,避免废屑残留在半导体晶圆的表面,且可以有效便捷的对半导体晶圆和开槽装置进行冷却降温,提高了装置的实用性。

基本信息
专利标题 :
一种半导体晶圆的开槽装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921725185.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-15
授权号 :
CN211104913U
授权日 :
2020-07-28
发明人 :
杨阳杨昊杨振华管家辉
申请人 :
无锡上机数控股份有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市滨湖区雪浪街道南湖中路158号
代理机构 :
北京睿博行远知识产权代理有限公司
代理人 :
张燕平
优先权 :
CN201921725185.7
主分类号 :
B28D5/00
IPC分类号 :
B28D5/00  B28D7/02  H01L21/67  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B28
加工水泥、黏土或石料
B28D
加工石头或类似石头的材料
B28D5/00
宝石、宝石饰物、结晶体的精细加工,例如半导体材料的精加工;所用设备
法律状态
2020-07-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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