本实用新型提供一种磁力线遮蔽控制反应腔室磁场的蚀刻机结构，其包括：第一等离子体反应腔体，具有第一反应腔室；第一线圈模块，环绕设置于第一反应腔室的外围；以及第一磁力线遮蔽模块，环绕设置于第一线圈模块的外围。借由本实用新型的实施，可以阻挡及/或反射第一线圈模块的磁力线及/或电磁波向外扩散且控制磁力线的形状，以有效创造更多制造过程参数，以便更精密的生产各类产品。