轮档架构
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于光刻机线排的轮档架构包括：主体，其为自锁框架结构，所述自锁框架结构供所述线排穿过，所述自锁框架结构长度和宽度可调节，所述自锁框架结构能将所述线排固定；移动支撑部，其固定连接在所述自锁框架结构底部，其高度可调节；线排固定结构，其设置在所述自锁框架结构的内侧，其插入线排的线间凹部相配合使线排被固定在自锁框架结构内。本实用新型能够避免线排涉水造成设备损坏，能将线排固定(包括临时固定)增加稳定性进而避免线排位置不固定影响人员操作，能适用于各种宽度高度的线排，能节省光刻机设备维护时间，提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
轮档架构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921954706.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-13
授权号 ：
CN210742675U
授权日 ：
2020-06-12
发明人 ：
余寅生刘大玖李睿
申请人 ：
上海华力集成电路制造有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号
代理机构 ：
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 ：
焦天雷
优先权 ：
CN201921954706.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-06-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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