本实用新型公开了半导体设备反应腔室的清理设备，包括腔室本体，所述腔室本体内部的顶部固定有支撑柱，所述支撑柱的顶部固定有工作台，所述腔室本体的侧面贯穿有通风管，所述通风管的内部设置有抽风机，所述腔室本体的顶部设置有盖板，所述盖板和腔室本体之间通过螺栓锁死，所述盖板上贯穿有壳体，所述壳体的内部固定有安装架，所述安装架上通过轴承转动连接有转轴。本实用新型所达到的有益效果是：通过设置桨叶、转轴和喷头，对通入装置内的清洁气体进行多角度冲洗，对装置内部的冲洗效果好；通过设置电机、齿轮、支架和刮板，将腔室本体的内侧壁上的污染物刮动，使之与清洁气体充分反应，提高清洁效果。