一种半导体热板光刻装置
授权
摘要
本实用新型涉及半导体热板加工技术领域，公开了一种半导体热板光刻装置，包括机台，所述机台顶部后侧延其长度方向固定连接有导轨，导轨上活动连接有自行走底座，自行走底座上部中间位置竖直向上固定连接有气缸，气缸的活塞杆上端面与支臂首端固定连接，支臂尾端底部竖直向下固定连接有激光刻头。本实用新型通过硅板在传输带上等距离分布，两个电动推杆带动横板下降，直至横板前侧的连接板上的定位框贴合在传输带上，此时定位框通过定位凸块将传输带上的硅板进行卡住固定，避免现有技术中仅仅将硅板放置在传输带上导致光刻时硅板发生晃动的情况。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体热板光刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020578442.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-17
授权号 ：
CN211554637U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
徐宏进
申请人 ：
扬州国润半导体科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省扬州市扬州高新技术产业开发区华钢路8号1
代理机构 ：
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 ：
李朦
优先权 ：
CN202020578442.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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