打标机
授权
摘要
本实用新型公开一种打标机，用于将图案投影与曝光在PCB板上，所述打标机包括投影工位、传送装置(2)以及用于投影与曝光图案的打标装置(3)，所述投影工位位于所述传送装置(2)的传送方向上的末端，所述打标装置(3)位于所述投影工位的上方，其中，所述传送装置(2)包括传送组件、对位组件，所述对位组件包括一对对位杆(24)以及第一驱动件，以使所述第一驱动件驱动所述一对对位杆(24)从所述传送组件的两端移动或向所述投影工位移动；所述打标装置(3)包括打标支架组件、投影组件(33)以及夹紧组件，以使所述投影组件(33)在向所述投影工位上的PCB板移动以进行投影时，所述夹紧组件同时向所述PCB板移动。本实用新型技术方案避免在对PCB板进行曝光时，PCB板发生跑位的现象，增加PCB上曝光的预设图案的准确性与清晰。
基本信息
专利标题 ：
打标机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022114719.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-24
授权号 ：
CN212781670U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
王俊华廖海明王海平
申请人 ：
深圳市森联科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区西乡街道桃源社区航城工业区智汇创新中心D栋602
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022114719.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00 H05K3/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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