一种硅片用槽式抛光装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种硅片用槽式抛光装置，包括依次设置的预清洗槽、第一水洗槽、碱液槽、第二水洗槽、后清洗槽、第三水洗槽、酸洗槽、第四水洗槽及烘干槽，所述碱液槽的槽体底部设置有超声波震动装置，所述超声波震动装置位于碱液槽中花篮的第一侧端支撑架的底部。本实用新型提高了硅片抛光后的表面质量，降低了不良品的产生；抛光反应更加完全、更加均匀，在一定程度上可以减少抛光工艺时间，提高产能；减少了消泡剂等化学品的使用量，降低了生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片用槽式抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022184778.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN212934645U
授权日 ：
2021-04-09
发明人 ：
陈其成裴银强陈培良
申请人 ：
常州时创能源股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市溧阳市溧城镇吴潭渡路8号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022184778.6
主分类号 ：
H01L31/18
IPC分类号 ：
H01L31/18 B08B3/08 B08B3/12
法律状态
2021-04-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
