曝光机的操作方法
公开
摘要
本发明公开了一种曝光机的操作方法，包括在晶圆的第一层上执行曝光，其中曝光的步骤依序地执行于覆盖第一层的多个第一曝光区域上；在晶圆的第二层上执行曝光，其中第二层在第一层上，曝光的步骤依序地执行于覆盖第一层的多个第二曝光区域上；以及在覆盖晶圆的第三曝光区域上执行曝光，且第三曝光区域对应的曝光能量为零。借此，本发明的曝光机的操作方法，通过在相邻的两个曝光步骤之间安插虚拟曝光的步骤，可降低第一层及第二层对应的图案之间的叠对误差。此外，通过这样的方式，使曝光的工艺可适用于不同曝光机机型，避免因曝光的起始位置及结束位置不同而增加叠对误差。
基本信息
专利标题 ：
曝光机的操作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114624961A
申请号 ：
CN202110306971.9
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-03-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王承宏徐嘉祥
申请人 ：
南亚科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新北市泰山区南林路98号
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
浦彩华
优先权 ：
CN202110306971.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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