基板处理装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具有：具有对基板进行处理的处理室的腔室、设置在处理室且设置在基板与腔室之间的盖体、以及在腔室与盖体之中只设置在盖体且对盖体进行加热的加热器。
基本信息
专利标题 ：
基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114360994A
申请号 ：
CN202111170682.7
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-10-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小林敦小室亘
申请人 ：
株式会社KELK
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
岳雪兰
优先权 ：
CN202111170682.7
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20211008
申请日 : 20211008
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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