基板处理装置
实质审查的生效
摘要
一种基板处理装置，包括：腔室，所述腔室具有处理空间；第一电源，所述第一电源连接至设置在所述处理空间中的第一部件且向所述第一部件传输具有第一频率的功率；第二电源，所述第二电源设置在所述处理空间中，连接至不同于所述第一部件的第二部件，并且向所述第二部件传输具有小于所述第一频率的第二频率的功率；及耦合阻挡结构，所述耦合阻挡结构安装在连接至所述第二电源及所述第二部件的电力线上，其中所述耦合阻挡结构电连接至所述电力线且包括具有线圈形状的导线。
基本信息
专利标题 ：
基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114446756A
申请号 ：
CN202111313478.6
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2021-11-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李贞焕李承杓
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
杨黎峰
优先权 ：
CN202111313478.6
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20211108
申请日 : 20211108
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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